EMULSIONE FOTOSENSIBILE CERAMIC PHW
| Codice | Quantità | Modello | Nome | CONTENUTO NETTO | CONFEZIONE | richiedi |
|---|---|---|---|---|---|---|
| CHES2001 | 1 | CERAMIC PHW | EMULSIONE | 1 KG | BARATTOLO | preventivo |
| CHES2006 | 1 | CERAMIC PHW | EMULSIONE | 5 KG | SECCHIELLO | preventivo |
USO:
Emulsione fotopolimera pura con il 50% di contenuto solido per la produzione di retini ad alto spessore per stampa diretta di piastrelle in ceramica per applicazioni speciali.
DESCRIZIONE E CARATTERISTICHE:
Emulsione fotopolimera pura con il 50% di contenuto solido per la produzione di matrici ad alto spessore.
Il contenuto solido e la viscosità elevati possono produrre matrici con uno spessore di 300 micron con una semplice applicazione multi-mani, bagnato su bagnato. L’applicazione di ulteriori mani, bagnato su asciutto, consente di raggiungere spessori fino a 3000 micron.
Tempi di esposizione 10 volte più rapidi rispetto alle emulsioni diazoiche e diazo-fotopolimere.
Resistente agli inchiostri a base di solventi poco aggressivi e all’umidità elevata, si può migliorare la resistenza all’acqua se sottoposta a post-esposizione.
Eccellente elasticità.
Emulsione fotopolimera pura con il 50% di contenuto solido per la produzione di retini ad alto spessore per stampa diretta di piastrelle in ceramica per applicazioni speciali.
DESCRIZIONE E CARATTERISTICHE:
Emulsione fotopolimera pura con il 50% di contenuto solido per la produzione di matrici ad alto spessore.Il contenuto solido e la viscosità elevati possono produrre matrici con uno spessore di 300 micron con una semplice applicazione multi-mani, bagnato su bagnato. L’applicazione di ulteriori mani, bagnato su asciutto, consente di raggiungere spessori fino a 3000 micron.Tempi di esposizione 10 volte più rapidi rispetto alle emulsioni diazoiche e diazo-fotopolimere.Resistente agli inchiostri a base di solventi poco aggressivi e all’umidità elevata, si può migliorare la resistenza all’acqua se sottoposta a post-esposizione.Eccellente elasticità.
